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氧化电源的优化设计及技术的缺点

氧化电源的优化设计及技术的缺点

发布日期:2017-05-08 作者:双核小编 点击:

    氧化的合适放电区间较窄,要求对放电后的电参数控制比较精确,大电流、高电压对供电电源提出了高要求,由于对氧化本质认识限制,使得氧化电源的设计及制造仍停留在经验摸索层面上,带有很大的盲目性。


  电解液的合理开发及选择:缺乏对单组分电解液及反应机理的深入研究,电解液的选择停留在经验摸索上,难以与氧化电源的合理衔接,进行陶瓷膜层的构造设计。

双核氧化电源

   1、由反应的机理决定,膜层为蜂窝状的多孔结构,均匀分布的小孔底部可起到保护作用的膜层厚度远远小于整个膜层的厚度。


  2、膜层中含有大量基体金属的氧化物和氢氧化物,极易与酸性介质应引起破坏,使氧化膜的使用范围受到限制。


  3、整个膜层的厚度较小(<300μm),硬度高、耐蚀能力强的致密层厚度通常只有总厚度的1/5左右。这使得膜层被作为耐磨耐蚀涂层时的使用寿命受到影响。至今也没有进行过任何针对氧化膜层的长效可靠性研究。


  4、高能耗。氧化电源反应在高电压、大电流模式下进行,耗能较大,单个工件的加工面积很难提高,降低了生产效率。

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